施乐公司承诺公开又一项专利，以支持保护地球计划
陶氏化学公司与由美国施乐公司和富士胶片控股公司合资创建的富士施乐公司已经双双加盟生态专利共享计划 (Eco-Patent Commons)。该计划是世界可持续发展工商理事会 (WBCSD) 启动的同类首个商业项目，旨在通过向公众公开分享各种环保型专利来实现改善环境的目的。
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最新承诺公开的专利包括：
-- 陶氏开发的一项技术。该技术能够通过降低加工过程中能源和材料的消耗，从而实现更有效的烯烃生产。烯烃是许多用于包装、电子产品、粘合剂、耐用品及其它应用材料的基本结构成分。与现有技术相比，这些专利所具备的几项优势能提高烯烃的生产效率--包括延长催化剂的使用寿命，减缓反应堆中的压强随着时间的推移而加剧下降，从而降低催化剂的更换频率。
-- 富士施乐研发的废水处理方法。
WBCSD 主席 Bjorn Stigson 表示：“我们非常欢迎陶氏化学公司和富士施乐公司加盟 Eco-Patent Commons。各企业将能通过这种方式推广它们的专利和分享研发投资成果，从而展示它们在可持续发展方面的真正领导力。Eco-Patent Commons 的规模还在不断发展壮大，总之，这些公开的专利将成为那些致力于节能、减废和水处理等领域的个人和企业的宝贵资源。”
陶氏承诺公开的专利
这两项专利描述了预塑形多孔载体材料（含一种活性化合物）组成的催化剂在碳氢化合物脱氢过程中的制备和应用。
化合物（如碳氢化合物）的脱氢是一种被广泛应用的大规模工艺。例如：烷烃脱氢为烯烃（如丙烷到丙烯，丁烷到丁烯）以及烷基芳香烃化合物脱氢为烯基芳香烃化合物（如乙苯到苯乙烯）。
富士施乐承诺公开的专利
富士施乐承诺提供两项有关废水有效处理的专利。该废水处理工艺通过利用聚硅酸铁或分离表面活性剂将废水中特殊的化学物质进行凝结和分离，从而对工厂排放出来的废水实现有效处理，并且在不破坏环境的条件下减少凝聚剂和由此产生的沉淀物的数量。
施乐公司承诺提供的又一项专利
美国施乐公司去年就已成为 Eco-Patent Commons 中的一员，当时该公司公开分享了11项专利，其中一项工艺能够将从土壤和水中去除有毒废物所花费的时间从数年缩减到几个月。如今，该公司还承诺提供另外一项专利。该专利所涉及的技术降低了磁制冷对环境的危害。施乐的5,641,424号美国专利告诉人们，如何在不利用消耗臭氧的制冷剂和消耗能源的压缩机的情况下，开发并应用一个能产生磁制冷效果的磁化解决方案。常规的磁制冷工艺通常要使用氟氯化碳 (CFC) 和氢碳氟化合物 (HFC)，而这两种化学物质都会造成严重的温室效应。
自 IBM、诺基亚 (Nokia)、必能宝 (Pitney Bowes) 和索尼 (Sony) 联手 WBCSD 于2008年1月推出 Eco-Patent Commons 以来，来自全球各行各业的十一家公司已经通过这项计划公开分享了他们的创新成果，并在节能和资源保护、减少废物排放和再利用等方面做出贡献。这十一家公司包括：博世 (Bosch)、陶氏、杜邦 (DuPont)、富士施乐、IBM (NYSE: IBM)、诺基亚、必能宝、理光 (Ricoh)、索尼、日本大成建设集团 (TaISei) 和施乐。
Eco-Patent Commons 的会员资格面向所有愿意承诺公开其专利的个人和企业开放。各组织可自行决定其承诺公开专利的选择和提交方式。会员公司和 WBCSD 邀请其它感兴趣的公司加入 Eco-Patent Commons，共同参与这项推动创新与协作的活动，支持保护地球计划。
